VLSI HUB
Если хотите рассказать мне интересное 👉 @iDoka
Статистика обновлена 13.11.2026 в 19:43 · 1 просмотр страницы · Хотите больше просмотров?
Динамика за 30 дней
Истории пока нет. График появится после следующих обновлений статистики.
Рекламные публикации
Последние публикации
Все посты канала →Жаль, конечно, что секретным соусом делиться отказывается 👉👈 🌚
Не верю, что он настолько "дофига умным" стал и теперь козыряет этим.
@vlsihub
На проходящей сейчас выставке Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) показала модель новой унифицированной платформы для литографии.
По словам компании, ключевые компоненты разработаны и производятся полностью в Китае; несколько машин давно работают на серийных линиях ведущих китайских logic- и memory-фабов и через них прошло более 10 млн пластин, коэффициент готовности оборудования выше 92%.
Новость при этом важная: i-line и KrF - зрелые технологии, позволяющие обеспечить техпроцесс до норм 110-90 нм. Конкуренты тут традиционные литографы, а не EUV. Даже на продвинутом техпроцессе большая часть слоёв (импланты, контакты, металлизация верхних уровней) экспонируется именно на KrF и i-line. Своя машина для этих слоёв убирает из-под санкционного давления значительную часть литографического парка.
Есть два нюанса. Готовность 92% для серийного фаба скромная: у зрелого парка западных сканеров она обычно выше. «Догоняем по производительности» означает, что по ключевым экономическим параметрам машина пока проигрывает.
ЗЫЖ Узкое место китайской литографии по-прежнему ArF-иммерсия под 28 нм и ниже, и про неё в анонсе ни слова.
источник
@vlsihub